小(xiao)面(mian)積上涂層厚度(du)的測(ce)量(liang)是個頭疼的問題，怎么(me)選擇小(xiao)面(mian)積涂層測(ce)厚儀呢？
我們先了解(jie)(jie)一下關于涂(tu)層(ceng)(ceng)厚(hou)度測(ce)量的基本知(zhi)識(shi)，再逐步分析小面積上(shang)的涂(tu)層(ceng)(ceng)厚(hou)度的測(ce)量方(fang)(fang)式。涂(tu)層(ceng)(ceng)也叫覆層(ceng)(ceng)，涂(tu)層(ceng)(ceng)覆層(ceng)(ceng)厚(hou)度的測(ce)量方(fang)(fang)法(fa)(fa)主要有：楔(xie)切法(fa)(fa)，光截法(fa)(fa)，電解(jie)(jie)法(fa)(fa)，厚(hou)度差(cha)測(ce)量法(fa)(fa)，稱重(zhong)法(fa)(fa)，X射線熒光法(fa)，β射線反(fan)向散射法(fa)，電容法(fa)、磁性測(ce)量(liang)(liang)法(fa)及渦(wo)流測(ce)量(liang)(liang)法(fa)等。這些方法(fa)中前(qian)五種是有損(sun)檢測(ce)，測(ce)量(liang)(liang)手段繁瑣，速度慢(man)，多適用(yong)于(yu)抽樣檢驗。生產(chan)中磁性法(fa)和渦(wo)流法(fa)是常(chang)用(yong)的(de)涂層厚(hou)度測(ce)量(liang)(liang)方式，估計要(yao)占到95%以上。
X射線和β射線法是無接觸無損測量，但裝置復雜昂貴，測量范圍較小。因有放射源，使用者必須遵守射線防護規范。X射線法可測(ce)極薄鍍層(ceng)、雙鍍層(ceng)、合金鍍層(ceng)。β射(she)線(xian)法適合鍍層和底(di)材(cai)原子(zi)序(xu)號大于3的(de)鍍層測量(liang)。電容法(fa)僅(jin)在(zai)薄導電體的(de)絕緣覆層測厚(hou)時采用。
申(shen)明一下，我司（無錫君達儀器）所知道的(de)(de)知識也是(shi)有限的(de)(de)，太(tai)深奧的(de)(de)關于涂層(ceng)厚度的(de)(de)測量(liang)機理(li)也不懂，我們只(zhi)是(shi)就自己(ji)掌(zhang)握的(de)(de)東(dong)西和大家交流(liu)。文章謝(xie)絕復(fu)制和轉摘！
測量涂層(ceng)厚(hou)度采用磁(ci)(ci)感應原理(li)時(shi)，利用從測頭經(jing)過(guo)非鐵磁(ci)(ci)覆層(ceng)而流入鐵磁(ci)(ci)基體的(de)磁(ci)(ci)通的(de)大(da)小，來測定覆層(ceng)厚(hou)度。也可以(yi)測定與之對應的(de)磁(ci)(ci)阻的(de)大(da)小，來表示其覆層(ceng)厚(hou)度。覆層(ceng)越(yue)厚(hou)，則磁(ci)(ci)阻越(yue)大(da)，磁(ci)(ci)通越(yue)小。
測(ce)(ce)量涂層(ceng)厚度采用電渦(wo)流(liu)原理時，高頻交流(liu)信(xin)號在測(ce)(ce)頭線圈中產生電磁場(chang)，測(ce)(ce)頭靠近導(dao)(dao)體(ti)時，就在其(qi)中形成渦(wo)流(liu)。測(ce)(ce)頭離導(dao)(dao)電基(ji)體(ti)愈近，則渦(wo)流(liu)愈大，反射阻抗也愈大。這個反饋作用量表征了測(ce)(ce)頭與(yu)導(dao)(dao)電基(ji)體(ti)之間距離的大小，也就是導(dao)(dao)電基(ji)體(ti)上非導(dao)(dao)電覆(fu)層(ceng)厚度的大小。
在(zai)涂層厚度的實際測量中，影響(xiang)測量數據的度的因素有(you)很(hen)多，比如邊緣(yuan)效應(ying)，表面粗(cu)糙度以及變(bian)形基體(ti)的磁性能(neng)電性能(neng)等。
這里講到了(le)邊(bian)緣效(xiao)應(ying)，就關乎小(xiao)面積上涂層厚度的測(ce)量(liang)了(le)。當工(gong)件面積很(hen)小(xiao)，比如(ru)直(zhi)徑小(xiao)于5毫米，那(nei)么(me)無(wu)論是磁(ci)感(gan)應(ying)還(huan)是電渦流涂(tu)層(ceng)厚度(du)測量(liang)原理，傳感(gan)器所(suo)發出的(de)磁(ci)場或電渦流，作用在基體上后，電磁(ci)場將會(hui)是不(bu)規則的(de)，這就給(gei)主機的(de)計算帶來的(de)困難，具體表現為(wei)無(wu)顯(xian)示，或即使有(you)顯(xian)示，測試涂(tu)層(ceng)厚度(du)數據和(he)真(zhen)實涂(tu)層(ceng)厚度(du)數據差異很大。
用戶(hu)如(ru)果自己的產品面積(ji)(ji)很(hen)小，用普通的測(ce)厚儀是無法測(ce)量的，常規的涂(tu)層測(ce)厚儀要求工(gong)件面積(ji)(ji)直徑10mm以上(shang)(shang)。因為小面積的(de)涂層(ceng)厚度(du)的(de)測(ce)(ce)(ce)量要求高同時市場需求很小，這就給涂層(ceng)測(ce)(ce)(ce)厚儀的(de)研發帶來了(le)效益上(shang)(shang)的(de)考慮。目前，國(guo)內的(de)小面積涂層(ceng)厚度(du)測(ce)(ce)(ce)量還是個(ge)薄弱(ruo)環節，雖然標稱zui小可(ke)測(ce)(ce)(ce)5毫(hao)米(mi)，但效(xiao)果差強(qiang)人意(yi)。國外（德國）的有測到磁(ci)性3毫米(mi)渦流2毫米的，使用(yong)起來還可以。國內的如TT260配F400探頭和(he)CNO2探頭(tou)，探頭(tou)和主機(ji)需要較真（用戶不要動(dong)手！）國外(wai)的EPK的(de)1100配N02探頭和F05探(tan)頭。具體的(de)還(huan)需(xu)要(yao)進(jin)一(yi)步交流。
同時，正因為小面積的(de)涂層(ceng)厚(hou)度(du)的(de)測(ce)量基(ji)本已經(jing)達(da)到本身小面積涂層(ceng)厚(hou)度(du)測(ce)量的(de)極限，所以(yi)，在小面積的(de)涂層(ceng)厚(hou)度(du)的(de)實際測(ce)試時，涂層(ceng)厚(hou)度(du)的(de)測(ce)試精度(du)，客戶不(bu)要太較真。
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